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方管抛光机-交替抛光法


方管抛光机-交替抛光法
  交替抛光法,就是将几种抛光工艺相互配合交替进行的整个抛光工艺的总称。它常用于多组分合金及工艺上对抛光表面粗糙度要求高的抛光作业。例如,在电抛光某种合金制件时,有时会在制件表面形成一层严重妨碍电抛光继续进行的覆盖层,但还未达到工艺上对抛光表面粗糙度的要求。这就需要在电抛光过程中间,加入一道机械抛光,以及时除去电抛光过程中形成的覆盖层,然后再进行电抛光。这种“电抛光-机械抛光-电抛光”交替进行的整个抛光工艺,就是交替抛光工艺的一个实例。
   交替抛光法,可交替一次,也可交替多次。也不限于两种抛光工艺进行交替,必要时,可交替使用多种抛光工艺进行抛光加工,直到抛光表面粗糙度达到工艺要求为止。
   应当指出,上述电抛光过程中抛光表面形成的覆盖层,不一定要用抛光作用很明显的机械抛光法除去,还可用其他似乎看不见具有抛光效果的更简单方法除去。化学浸洗法就是一个高效快速除膜法。例如,在用磷酸-硫酸-水混合电解液中,对板状钼制件进行电抛光时,制件表面会很快形成一层蓝紫色班盖层。该层随着电抛光过程的进行会快速增厚,使电解电流迅速减小。当电解电流减小到原调电流值的1/3~1/5或更小时,它就会基本稳定下来。这时电抛光过程几乎停止或丧失了。取出制件除去表面蓝紫色覆盖层后会看到,抛光表面的粗糙度还达不到工艺要求,尚需再抛光。但若不除去钼制件表面紫色橙盖层,是无法再进行电抛光的。去除这种紫色膜可用湿布团擦拭,也可用碱性(如氢氧化钠)稀水溶液浸洗数分钟除去。

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